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PROMOSOLV NEO A2：取代3M Novec™ 71IPA，专攻SMT 与封装制程的高渗透强效清洗技术结合醇类强化配方，在PFAS-Free 的安全基础上，彻底扫除细间距组件下的化学残留。

随着全球环境法规进入严格监控期，特别是3M™ Novec™ 71IPA 与7100的退场，您的制程需要一个更强大、更安全的延续方案。 Inventec 倾力研发的PROMOSOLV™ NEO A2，正是为了满足更高标准的「去助焊剂」与「快速干燥」需求而生。
作为Greenway永续系列的核心成员，A2 结合了尖端化学性能与企业社会责任，助您在净零转型的浪潮中，依然保有卓越的产能竞争力。

产品核心优势Core Product Advantages

PROMOSOLV™ NEO A2 在维持环保特性的基础上，强化了对顽固污染物的去除能力，是半导体后段制程的强效后盾。

  • 强化去污效能：相比一般溶剂，NEO A2 针对高铅焊锡膏（如HT 301T）或长效型助焊膏焊接后的烧结残留物，具备更快的溶解速度。
  • 极佳的表面张力控制：具备极低表面张力（14.5 mN/m），能轻易渗透进Flip Chip（覆晶）的微小间隙与High-Density Interconnect (HDI)结构中。
  • 无闪点安全性：属于非易燃液体，在高温汽相清洗（Vapor Degreasing）设备中运行极其安全，无需防爆特殊配置。

安全与环保承诺Safety & Environmental Commitment

针对台湾半导体产业对「化学品生命周期」的高度关注，NEO A2 提供符合未来规范的物理特性。

  • 极低GWP（全球暖化潜势）：数值远低于传统清洗剂，协助封装测试厂（OSAT）减少范畴三（Scope 3）的碳排放。
  • 零臭氧消耗（Zero ODP）：保护大气层，符合台湾与国际最严苛的环保法规。
  • 化学物理稳定性：不含酸性物质，在多次蒸馏循环后仍能保持中性，不会损伤设备或精密半导体零组件。

卓越效能Exceptional Performance

在追求高信赖度的半导体应用中，NEO A2 确保了封装后的电器特性不受干扰。

  • 残留物「零」检出：配合汽相清洗制程，能有效去除离子污染，防止晶片在长期运作中产生电化学迁移或漏电。
  • 卓越的材料兼容性：针对半导体常用的导线架（Leadframes）、陶瓷基板、金属盖板（Lids）以及多数工程塑料均无侵蚀。
  • 制程一致性：稳定的共沸（Azeotropic）配方，确保清洗槽内的成分不会随蒸发时间改变，维持生产线品质稳定。

成本优化cost optimization

NEO A2 透过制程效率的提升，帮助企业在环保与成本之间取得平衡。

  • 低沸点、低能耗：沸点约45℃，能大幅缩短加热启动时间，并降低清洗设备的日常用电成本。
  • 高效回收率：极佳的热稳定性让溶剂在汽相清洗设备中能进行无数次的高效率回收，减少药水补充与废液处理频率。
  • 免除废水处理成本：全干式制程，无需像传统水洗需要投入大量成本在废水过滤、中和与排放监测。

适用领域Application area 

  • 功率半导体封装：彻底清洗高温焊接后的厚重助焊剂残留。
  • 车用电子模组(Automotive Electronics)：满足极高标准的洁净度规范，确保长期可靠性。
  • 高阶医疗电子：针对植入式或高精密诊断器材的精密清洗。
  • 航太封装(Space Grade)：提供在极端环境下运作所需的极致表面洁净度。

健康、安全与环境

PROMOSOLV NEO A2是⼀款GREENWAY产品
THERMASOLV CF2 Greenway 29%

主要减少影响因素:

人体安全与健康
  • 无闪点的安全保障：具备不燃特性且完全无闪点，即便在高强度工况或设备运转中，也能确保100% 的操作安全性。这不仅简化了仓储规范，更大幅降低了工厂发生火灾事故的隐患，为企业营运提供绝对的稳定性。
  • 低毒性、无腐蚀的友善设计：针对操作人员健康设计，具有极低毒性，不含危害性化学物质；同时对各种精密基材展现极佳的相容性，在强效去污的同时，不对零件产生腐蚀损伤，确保产出品质的一致性。
环境保护与资源节约
  • 超低全球暖化潜能值（Ultra-low GWP）：领先业界的环保规格，GWP 指标极低（GWP < 10），助企业轻松对应日益严苛的国际碳排放监管要求，实践绿色转型。
  • 优化沸点配置：透过与高沸点溶剂形成稳定的共沸物（Azeotrope），有效降低整体运作温度。
  • 大幅降低能耗：较低的运作温度意味着更少的电力消耗与预热时间，同时降低溶剂因高温挥发导致的损耗，帮助企业在能源与原物料成本上取得双赢。
  • 极简化的资源配置：本产品无需后续水洗制程，彻底消除废水处理负担。透过高效回收循环机制，从源头减少化学品与能源的浪费，打造精实、高效且低负担的清洁解决方案。

流程范例

最佳制程取决于多种因素，例如操作条件、设备、所需的清洗时间以及污染物的性质。我们的团队随时准备为您提供建议。

分离的助溶剂

TOPKLEAN EL 80

Conc: 100%
Temp: 60/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2

Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A2

Conc: 100%
Temp: 30/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE

Conc: 100% NEO A2 vapor
Temp: 33/129

Time: 5-60 sec
DRYING

单溶剂法：去除含氟润滑剂

PROMOSOLV NEO A2

Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2

Conc: 100%
Temp: 30/86
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE

Conc: 100% NEO A2vapor
Temp: 33/91

Time: 5-60 sec
DRYING