PROMOSOLV NEO A1：取代3M Novec™ 7100，具备卓越材料相容性与无痕干燥效果的环保首选专为光学镜片、敏感基材与精密组件设计，提供Greenway 等级的超低碳足迹防护。
随着全球环境法规趋严及3M™ Novec™ 系列即将停产，电子与半导体产业正面临制程转换的关键时刻。PROMOSOLV™ NEO A1是Inventec 研发的新一代「Greenway」环保溶剂，不仅完全不含PFAS (全氟及多氟烷基物质)，更具备极低的全球暖化潜势(GWP < 1)，是您兼顾高效能清洗与企业永续(ESG)的最佳解答。
适用从超低温到高温，确保关键电子元件在单相系统中的长期稳定与高效散热！
- 介电传热流体
- 沸点：110°C/230°F
- 无闪点& 超低GWP
产品核心优势Core Product Advantages
PROMOSOLV™ NEO A1 是一款专为汽相脱脂（Vapor Degreasing）设计的非易燃溶剂，能应对最严苛的精密清洗挑战。
- 强效溶解能力：具备极佳的KB 值（Kauri-Butanol value），能彻底清除各类助焊剂残留、油污、蜡以及指纹。
- 优异的渗透性：低表面张力特性，使其能渗透进微小间距（Fine-pitch）元件下方与复杂的几何结构，确保无死角清洗。
- 干燥速度极快：零件出炉即干燥，无需额外的烘烤制程，大幅缩短生产周期。
安全与环保承诺Safety & Environmental Commitment
在全球供应链对PFAS 与全球暖化潜势（GWP）日益关注的当下，NEO A1 是台湾企业转型的首选。
- 极低全球暖化潜势(GWP)：显著低于传统溶剂（如HFC 或旧型氟化溶剂），协助企业达成碳中和目标。
- 非易燃安全特性：无闪点（No Flash Point），不属于危险品运输范畴，大幅降低厂房存储与操作风险。
- 零臭氧损耗(Zero ODP)：完全符合蒙特娄议定书规范，是传统氟氯烃（HCFC）溶剂的理想替代品。
- 工作环境友善：暴露限制值（Exposure Limit）较高，保障第一线作业人员健康。
卓越效能Exceptional Performance
针对台湾领先的半导体与高阶医材制造，NEO A1 提供无与伦比的洁净度。
- 低表面张力：相比传统水洗，NEO A1 具备更好的流动性，能轻松带走Flip Chip 或BGA 元件下的微小杂质。
- 稳定的共沸特性(Azeotropic)：在汽相清洗设备中表现极为稳定，确保从第一件到最后一件产品的清洗品质始终如一。
- 无需超音波即可清洗：在许多应用中仅需汽相与喷淋即可达成极高洁净度，避免精密元件受损。
成本优化cost optimization
从制程整合与设备维护的角度出发，实现真正的经济效益。
- 低能耗运作：较低的沸点（约40-60℃，视具体配方而定）意味着更短的加热时间与更低的电力消耗。
- 溶剂可回收再生：透过汽相清洗系统的冷凝与过滤，溶剂可重复循环使用，大幅降低材料补充成本。
- 免除水处理环节：与水洗制程相比，NEO A1 无需耗费纯水（DI Water）且完全没有废水处理的负担与风险。
适用领域Application area
PROMOSOLV™ NEO A1 在台湾各个核心成长领域均展现其价值：
- 半导体与封装：封装后的助焊剂残留去除，确保电性能稳定。
- 航空航太与国防：高可靠度电路板（PCB）清洗，符合MIL 军规要求。
- 精密机械与光学：关键精密零件的去油污、去指纹处理。
- 电子重工(Rework)：针对维修后的电路板进行局部或整体洁净化处理。
流程范例
最佳制程取决于多种因素，例如操作条件、设备、所需的清洗时间以及污染物的性质。我们的团队随时准备为您提供建议。
分離的助溶劑
TOPKLEAN MC 20A
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING
單溶劑法：去除含氟潤滑劑
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING